广州某半导体器件鑫霖环保芯片制作加工厂，晶圆制作加工过程中中产生了含硅、氟的特别的污水，设计构思除理投资额1200吨/日。污水的成分繁复，包含微米级硅颗料及氢氧化钠，普通除理做法易于考核标准。 废水处理的成分及从何而来 常见感染物 ：固体硅（100-500nm粒级）、氟正离子（200-300mg/L）、异丙醇 来历步骤 ：晶圆刻蚀电镀废水处理（45%）、CMP化学反应机械机器设备打磨抛光电镀废水处理（40%）、机器设备洗水（15%） 进行处理艺过程 科技创新采用了"物理化学石雕文化沉淀+特殊工种膜分离法"技术性风格： 钙盐水解 ：加药系统氯化钙消除氟正离子（出现CaF2水解） 斜管沉淀池症状 ：组合二沉池剂体现悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm直径膜公款私存微细颗粒肥料 反渗系统性 ：脱盐率>98%，收集率75% 挥发成果 ：浓水段保持氟化物零进行排放 决定性的效果 氟化物密度：<8mg/L（降至一个国家一級标准化10mg/L） 硅含水量：<5mg/L 水自然资源造纸废水处理率：70%用以冷凝塔保湿补水 危废处理减轻药量：汽化渣滓量较传统的生产技术缩短60%