某光电器件造成厂家因晶圆进行维护清洁加工过程导致含氨废污水，需水量200吨/天。废污水面除氟化物外还包含的氟化物和少量巨资属，处里一定的难度大。位置污染物标准规定追求氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理方法材料及来自 晶圆进行维护清洁焦化废水（具体来自）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工序废水处理方法：含轻微铜、镍等高价属，pH值变化大 CMP机磨污废水 ：含硅顆粒及高锰酸盐指数 除理工序工作流程 选择"无机化学积累+膜分开+折点氯化"乐队组合加工制作工艺 ： 预解决 ：加药系统CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 反渗透装置操作系统 ：剔除0.01μm之上颗粒剂物 反融合浓缩咖啡 ：将氟化物精炼至1000mg/L不低于 折点氯化 ：精确性调控氯加药量，将挥发酚还原成为氢气 铁离子交易 ：确保血本属符合标准 最中视觉效果 高锰酸盐指数增强＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属硫含量如果低于论文检测限 水回收率达75% 生活污水制造量少40%