半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
顶目大环境
该厂家为环球最前沿的半导体材料测封厂家,隶属于珠半圆城市,一般做出高档次存储芯片的划区和二极管封装测式。在本市环境追求按照严格,厂家绝对制定污废水 零废气排放水利。品牌于2030年开启,2023-5年6月竣工投入运营,加工企业规模为200吨/日,总投资的约2000多万元。
废水处理工艺组成成分及源
某项基本原则划区焦化废水兼具如下优势:
高溶液质量浓度氟化物,常见原于晶圆割孔后的除垢环节,氟阴阳离子溶液质量浓度到达150-200mg/L
包含有nm级硅粉粉末,粒度分布多在100-500nm相互
有机的供电量较高,COD在500-800mg/L
含轻微巨资属如铅、镉等
导电率高,基本在2000-3000μS/cm
清理技术工作流程
为变现临“0”排放物阶段目标,的工艺开发至关重要充分考虑污废水 各类处理和的资源收购:
废水处理方法进行分类整理整体
:将含氟污化工废水 与任何污化工废水 分不开获取
催化沉定除氟
:主要采用多级钙盐积淀法,协调优质积淀池
高級腐蚀操作
:臭氧的危害促使脱色吸附难工作有机物
膜溶缩系统化
:用于DTRO碟管式反融入,原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 因数为10倍
挥发晶体
:MVR机戒液体再进行压缩蒸馏器治理 浓水
低温干燥设计
:将晶粒盐皮肤干燥后最为制造业副类产品外售
清理效率
操作系统运作数据库提示:
氟化物清除率>99.9%,有水出氟正离子<1mg/L
COD总祛除率>98%,留水COD<20mg/L
水资原二手回产出率>95%,仅发生少许晶体盐
每一年的可收废高品控循环水约七万之吨
沉淀盐纯净度以达到轻工业级原则,保证资源的化用
项目流程实际上完成了废水处理工艺零减排,还凭借影视资源收回创造者了约8070万/年的超额投资回报。