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半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法

产品的背景 这创业项目坐落长三边形各地某国家半导体芯片品牌苑区,企业主主要的生產84英尺和124英尺晶圆,日常量符合2万片。跟随产能分析不断提升,和原有的污废水 加工整体已难以需要满足环保型标准,现需持续改进。创业项目总注资约1200万元,设计的概念加工力量为300吨/日,于2022年竣工投产。 废水处理工艺部分及种类 该单位晶圆片区环节形成的生活污水重点富含以下的成分表: 裁割历程中用的研磨抛光液留物,重点营养成分为二空气氧化硅小粒、表皮活力性剂和无机“食品添加剂 晶圆接触面洁净形成的含氟生活污水,氟阳离子溶度在80-120mg/L 少许巨资属阴离子如铜、镍等,渠道于裁切工貝轮胎磨损 有机的萃取剂留下,有异丙醇、异丙醇等 pH值跌涨较多,往往在4-10范围内 治理 鑫霖环保步骤流程 重要性废液性能特点,设计构思采取"物理化学预处置+生化模式处置+进一步处置"的结构新工艺: 调结池 :稳定地表水用水量,配置pH网络监测操作系统和定时投加操作系统 沥青混凝土乳浊液 :加药系统PAC和PAM,去掉悬浮物物和固体有机物 气浮单元式 :通过溶气气浮艺进步取除微小科粒和的部分有机化学物 什么是生化治理 :使用MBR膜生态学的催化反应器,废水酸度稳定在8000-10000mg/L 深层次净化处理 :吸出性炭吸出+反渗透设备性和技艺,为了确保溢水达到 污泥干化外理 :板框厢式压滤机脱水过滤,淤泥含水量率下降60%下列 进行处理治疗效果 体统相对稳定加载后,留水水体几乎做到《电子设备化工水污染破坏物产生物规范》(GB39731-2020)有点产生物最大限度规定: COD<30mg/L 氟铝离子<5mg/L 飘浮物<10mg/L 天价属杜六房加盟总部的指标图均低过最大限度 该项目每季度可增多严重大气污染物废气量约COD 32吨、氟化物8.5吨,中水回用水率完成75%往上,为工厂节约使用电费拨出约140万元/年。

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